陰極電弧技術沉積添加Cu、Zn元素之功能性二氧化鈦薄膜特性研究
| 期刊論文 | |
| 刊名 | 明道學術論壇 |
| 卷期 | 6：1 |
| 篇名 | 陰極電弧技術沉積添加Cu、Zn元素之功能性二氧化鈦薄膜特性研究 |
| 其他題名 | 並列題名；Characteristic Studies of Functional Titanium Dioxide Films Doped with Copper and Zinc Elements by Cathodic Arc Deposition |
| 起訖頁 | 115-122 |
| 作者 | 李鈺萍；何偉友 |
| 出版/發行者 | 明道大學 |
| 出版年月 | 2010/03 |
| 出版地 | 彰化縣 |
| 出版國別 | 臺灣 |
| 語文 | 中文 |
| 關鍵字詞 | 功能性薄膜；陰極電弧沉積；二氧化鈦；Functional films；Cathodic arc deposition；Titanium dioxide |
| 章節標目 | 摘要（頁115，122）；壹、前言（頁116）；貳、實驗方法（頁117）；參、結果與討論（頁117-120）；肆、結論（頁120）；五、參考文獻（頁121） |
| 授權狀態 | 已授權 |